Kuai Technology将在6月2日取消该问题。5nm表示，如果没有EUV光刻机器，就可以做到这一点。一段时间以前，世界上有某种“特殊” 5
Kuai Technology将在6月2日取消该问题。5nm表示，如果没有EUV光刻机器，就可以做到这一点。不久前，全球有5 nm的“特别”新闻。该5 nm使用了完全不同的技术路线，该路线避免了EUV光刻机器的依赖性，使用了步骤 - 步骤扫描光刻机器，通过多个展览实现了5 nm的线路宽度。其次，如果没有EUV光刻机器，是否有3 nm的可能性？根据最新报告，5NM品牌配置为使用3NM工艺技术启动AP（应用程序处理器），目的是从2025年开始。芯片使用Gate-Acound-Acound（GAA）技术有效地降低了当前的泄漏并改善了性能。这是TSMC和三星在高级过程中采用的重要技术。但是，该计划面临着重要的挑战。市场通常质疑SE是否可以做到。以前，使用深紫外线接触机使用了多次暴露（DUV）实现5 nm过程的质量生产。市场认为，在3nmimeter过程中可以采用类似的方法。但是，与EUV相比，DUV使用的多种暴露方法显着增加了过程的步骤，这不可避免地导致绩效和生产力降低。因此，未来问题的核心将取决于是否可以处理EUV光刻机器。 [本文的结尾]如果您需要重印，请务必向我们展示其来源：Kuai技术编辑：Chahui
